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无取向硅钢铬酸镁绝缘涂层的麻点缺陷分析

王双红 赵时璐

王双红, 赵时璐. 无取向硅钢铬酸镁绝缘涂层的麻点缺陷分析[J]. 钢铁钒钛, 2016, 37(2): 149-153. doi: 10.7513/j.issn.1004-7638.2016.02.026
引用本文: 王双红, 赵时璐. 无取向硅钢铬酸镁绝缘涂层的麻点缺陷分析[J]. 钢铁钒钛, 2016, 37(2): 149-153. doi: 10.7513/j.issn.1004-7638.2016.02.026
Wang Shuanghong, Zhao Shilu. Analysis of Pitting Defects of Magnesium Chromate Insulating Film on Non-oriented Silicon Steel[J]. IRON STEEL VANADIUM TITANIUM, 2016, 37(2): 149-153. doi: 10.7513/j.issn.1004-7638.2016.02.026
Citation: Wang Shuanghong, Zhao Shilu. Analysis of Pitting Defects of Magnesium Chromate Insulating Film on Non-oriented Silicon Steel[J]. IRON STEEL VANADIUM TITANIUM, 2016, 37(2): 149-153. doi: 10.7513/j.issn.1004-7638.2016.02.026

无取向硅钢铬酸镁绝缘涂层的麻点缺陷分析

doi: 10.7513/j.issn.1004-7638.2016.02.026
基金项目: 

沈阳大学博士后启动基金(11207201)

详细信息
    作者简介:

    王双红(1979-),男,汉,沈阳辽中人,副教授,博士后,主要从事金属表面技术研究

  • 中图分类号: TF764,TG174.44

Analysis of Pitting Defects of Magnesium Chromate Insulating Film on Non-oriented Silicon Steel

  • 摘要: 为解决无取向硅钢铬酸镁绝缘涂层易出现表面"点状"麻点缺陷,提高硅钢涂层板的表面质量和使用性能。利用扫描电子显微镜及能谱仪分析了光辊工艺所制备的铬酸镁绝缘涂层的麻点缺陷的微观形貌,对比分析麻点缺陷位置的成分差别。结果表明:铬酸镁绝缘涂层的麻点缺陷主要发生在基板的凹坑处,麻点处的Cr、Mg、O元素含量明显高于正常涂层,麻点缺陷结构类似于"火山"或"环形山"结构,中间凹口处的涂层脱落严重,涂层厚度由中心依次向四周辐射递减,且分布许多横纵交错的龟裂纹。涂料中悬浮的固体颗粒物是产生麻点缺陷的主要因素,优选涂料原料、严格生产工艺、增加真空过滤设备是解决麻点缺陷的有效措施。
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出版历程
  • 收稿日期:  2015-08-03

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