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电子束气相沉积的研究进展

赖奇 李俊翰 吴恩辉 崔晏 李亮 廖先杰

赖奇, 李俊翰, 吴恩辉, 崔晏, 李亮, 廖先杰. 电子束气相沉积的研究进展[J]. 钢铁钒钛, 2020, 41(4): 76-81. doi: 10.7513/j.issn.1004-7638.2020.04.014
引用本文: 赖奇, 李俊翰, 吴恩辉, 崔晏, 李亮, 廖先杰. 电子束气相沉积的研究进展[J]. 钢铁钒钛, 2020, 41(4): 76-81. doi: 10.7513/j.issn.1004-7638.2020.04.014
Lai Qi, Li Junhan, Wu Enhui, Cui Yan, Li Liang, Liao Xianjie. Research Progress of Electron Beam Vapor Deposition[J]. IRON STEEL VANADIUM TITANIUM, 2020, 41(4): 76-81. doi: 10.7513/j.issn.1004-7638.2020.04.014
Citation: Lai Qi, Li Junhan, Wu Enhui, Cui Yan, Li Liang, Liao Xianjie. Research Progress of Electron Beam Vapor Deposition[J]. IRON STEEL VANADIUM TITANIUM, 2020, 41(4): 76-81. doi: 10.7513/j.issn.1004-7638.2020.04.014

电子束气相沉积的研究进展

doi: 10.7513/j.issn.1004-7638.2020.04.014
基金项目: 

四川省科技厅项目(2018FZ0090);攀枝花市科技计划项目(2018CY-G-6);攀枝花市科技计划项目(2017CY-G-12)

详细信息
    作者简介:

    赖奇(1976-),男,四川攀枝花人,博士,教授,硕士生导师。研究方向为材料物理与化学,E-mail:pzhlaiqi@163.com

  • 中图分类号: TB33,TG174.44

Research Progress of Electron Beam Vapor Deposition

  • 摘要: 介绍了电子束真空气相沉积(EBPVD)镀膜技术的优点、国内外发展现状,并对其关键技术:材料的高速电子束蒸发过程在真空和工艺参数控制下的物质的沉积、成分和组织结构的控制等方面进行了分析。简要论述了其硬件条件,以便为钢钛复合材料的制备提供解决思路。
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出版历程
  • 收稿日期:  2020-03-24

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